微電子半導(dǎo)體晶圓制程工藝氣體過濾終端 316L 外殼快速進(jìn)氣擴(kuò)散器
在微電子半導(dǎo)體晶圓制程中,工藝氣體的純凈度與進(jìn)氣效率直接影響晶圓的良率與性能。深圳恒歌推出的微電子半導(dǎo)體晶圓制程工藝氣體過濾終端 316L 外殼快速進(jìn)氣擴(kuò)散器,專為半導(dǎo)體制程真空腔體快速放氣應(yīng)用設(shè)計(jì),憑借精準(zhǔn)的過濾性能與高效的進(jìn)氣設(shè)計(jì),成為晶圓制造環(huán)節(jié)的關(guān)鍵支撐設(shè)備。?
這款過濾終端最核心的優(yōu)勢在于其卓越的過濾精度,可達(dá) 0.003um,能高效攔截工藝氣體中的微小顆粒。在晶圓光刻、刻蝕等精密工藝中,即使是納米級(jí)的雜質(zhì)也可能導(dǎo)致電路缺陷,而該設(shè)備通過不銹鋼粉末燒結(jié)介質(zhì),可深度凈化工藝氣體,防止微粒混入腔體,從源頭幫助企業(yè)提高產(chǎn)品合格率。同時(shí),其 316L 不銹鋼外殼不僅具備出色的耐高溫、耐高壓、耐腐蝕特性,能適應(yīng)半導(dǎo)體制造中的嚴(yán)苛環(huán)境,還通過優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),巧妙規(guī)避了氣體流動(dòng)時(shí)的湍流產(chǎn)生。湍流會(huì)破壞真空腔體的穩(wěn)定環(huán)境,可能吹起腔體內(nèi)殘留顆粒或擾動(dòng)硅片,影響工藝精度,而該設(shè)備平穩(wěn)的氣流設(shè)計(jì)則徹底解決了這一隱患。?
作為快速進(jìn)氣擴(kuò)散器,其在保障過濾效果的同時(shí),還能實(shí)現(xiàn)高效排氣,滿足真空腔體快速放氣的生產(chǎn)需求,助力提升制程效率。此外,產(chǎn)品全程在潔凈室環(huán)境內(nèi)完成制造、測試與包裝,每一臺(tái)都經(jīng)過 100% 完整性測試和 100% 氨氣泄露檢測,確保出廠品質(zhì)可靠。針對(duì)不同晶圓廠的設(shè)備布局差異,恒歌還提供定制化設(shè)計(jì)服務(wù),讓設(shè)備能靈活適配各類安裝空間,進(jìn)一步提升使用便捷性。?
產(chǎn)品特點(diǎn):?
1、0.003um 高精度過濾:深度攔截微粒,保障氣體超純。?
2、316L 不銹鋼外殼:耐極端工況,延長設(shè)備壽命。?
3、快速進(jìn)氣設(shè)計(jì):滿足真空腔體快速放氣,提升制程效率。?
4、抑制湍流產(chǎn)生:維持氣流平穩(wěn),保護(hù)工藝環(huán)境。?
5、雙重嚴(yán)格檢測:100% 完整性與氨氣泄露檢測,質(zhì)量可控。?
微電子半導(dǎo)體晶圓制程工藝氣體過濾終端 316L 外殼快速進(jìn)氣擴(kuò)散器,以 “高效過濾 + 穩(wěn)定氣流 + 靈活適配” 的核心優(yōu)勢,為半導(dǎo)體晶圓制造提供可靠保障,是企業(yè)提升工藝水平的理想選擇。
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